其被涂覆在光致抗蝕劑掩模重疊基板，用于烘焙的圖案，其包括范圍和X-Y-θ臺(tái)機(jī)構(gòu)的曝光裝置，以允許自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)在多次曝光，基板的供給也對(duì)準(zhǔn)曝光 - 在汽車尾氣排放進(jìn)行。

• 憑借其獨(dú)特的平行拉伸機(jī)制，高精度地設(shè)置了掩模和晶圓之間的接近間隙。

• 通過**的高速圖像處理技術(shù)進(jìn)行高精度的對(duì)位。

• 通過圖像處理技術(shù)，預(yù)對(duì)準(zhǔn)也適用于薄基板，變形基板，石英和其他易碎晶圓。（可選）

• 憑借我們獨(dú)特的接觸壓力**控制機(jī)制，我們可以高精度地與掩膜接觸。

• 通過晶圓的背面真空吸附方式，實(shí)現(xiàn)了高速，高精度的穩(wěn)定自動(dòng)輸送。

 

 

		MA-4000
晶圓尺寸		?2至4“	?4至6“
面膜大小		□5“	□7“
光源		超高壓汞燈：500瓦或1千瓦
外部尺寸和重量	身體尺寸	W 1340 x D 1430 x H 1900 mm
	體重	1120公斤
選項(xiàng)		生產(chǎn)管理系統(tǒng)（D-Net），背面對(duì)齊，○□雙板